FeCoTa Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made
Tantaliu di ferru cobaltu
Iron Cobalt Tantalum targets sò generalmente dispunibili in forma circular è materiali critichi di film sottili di media di registrazione magnetica verticale.A quantità considerableu di Tantalum presente in l'aliaghju risultatu in a segregazione è prisenti particeddi micca dissolute.Impieghemu un metudu di produzzione unicu chì puderia assicurà l'omogeneità di a microstruttura è migliurà e proprietà meccaniche di i materiali.
Nome di u produttu | FeCoTa | |||
Fe/wt% | Balance | Balance | Balance | |
% Co/Wt | 21,6 ± 0,5 | 21,9 ± 0,5 | 20,2 ± 0,5 | |
Ta/wt% | 41,1 ± 0,8 | 39,4 ± 0,8 | 44,3 ± 0,8 | |
Contenutu di impurità di metalli(ppm) | Ni | ≤ 100 | ≤ 100 | ≤ 100 |
Al | ≤ 300 | ≤ 300 | ≤ 300 | |
Si | ≤ 200 | ≤ 200 | ≤ 200 | |
Contenutu di impurità di gas(ppm) | C | ≤ 200 | ≤ 200 | ≤ 200 |
N | ≤ 100 | ≤ 100 | ≤ 100 | |
O | ≤600 | ≤600 | ≤600 | |
S | ≤75 | ≤75 | ≤75 |
Rich Special Materials hè specializatu in a Fabbricazione di Sputtering Target è puderia pruduce Materiali Sputtering Iron Cobalt Tantalum secondu e specificazioni di i Clienti.Per più infurmazione, per piacè cuntattateci.