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FeCoTa Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

Tantaliu di ferru cobaltu

Descrizione breve:

categuria

Alloy Sputtering Target

Formula chimica

FeCoTa

Cumpusizioni

Tantaliu di ferru cobaltu

Purità

99,9%,99,95%,99,99%

Forma

Piastre, Targets di Colonna, catodi d'arcu, Custom Made

Prucessu di pruduzzione

Fusione à vacuum, PM

Taglia dispunibule

L≤200mm,W≤200mm


Detail di u produttu

Tags di u produttu

Iron Cobalt Tantalum targets sò generalmente dispunibili in forma circular è materiali critichi di film sottili di media di registrazione magnetica verticale.A quantità considerableu di Tantalum presente in l'aliaghju risultatu in a segregazione è prisenti particeddi micca dissolute.Impieghemu un metudu di produzzione unicu chì puderia assicurà l'omogeneità di a microstruttura è migliurà e proprietà meccaniche di i materiali.

Nome di u produttu

FeCoTa

Fe/wt%

Balance

Balance

Balance

% Co/Wt

21,6 ± 0,5

21,9 ± 0,5

20,2 ± 0,5

Ta/wt%

41,1 ± 0,8

39,4 ± 0,8

44,3 ± 0,8

Contenutu di impurità di metallippm)

Ni

≤ 100

≤ 100

≤ 100

Al

≤ 300

≤ 300

≤ 300

Si

≤ 200

≤ 200

≤ 200

Contenutu di impurità di gasppm)

C

≤ 200

≤ 200

≤ 200

N

≤ 100

≤ 100

≤ 100

O

≤600

≤600

≤600

S

≤75

≤75

≤75

Rich Special Materials hè specializatu in a Fabbricazione di Sputtering Target è puderia pruduce Materiali Sputtering Iron Cobalt Tantalum secondu e specificazioni di i Clienti.Per più infurmazione, per piacè cuntattateci.


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