MoNb Sputtering Target High Purity Thin Film PVD Coating Custom Made

I miri di Molibdenu Niobiu sò preparati mischjendu i polveri di Molibdenu è Niobiu seguitu da a compattazione à a densità piena.I materiali cusì compactati sò opzionalmente sinterizzati è sò poi furmati in a forma di destinazione desiderata.
U molibdenu Niobium sputtering target hà un altu puntu di fusione, forza è tenacità à temperature elevate.Presenta ancu una eccellente conduttività termica è elettrica cù un bassu coefficientu di espansione termica.L'aggiunta di Niobiu in Molibdenu migliurà u pixel di visualizazione di cristalli liquidi da almenu trè volte.

Molibdenu Niobium sputtering target sò materiali critichi per Flat Panel Display (FPD) è sò usati in grande quantità in leghe di molibdenu-niobium per Display a cristalli liquidi (LCD) sorgente cuboide di cristalli liquidi, display di emissioni di campu, display organico di emissione di luce, plasma. pannelli display, catodoluminescence display, vacuum fluorescent display, display TFT flexible è touch screens, etc.. Evaporazione fasciu di elettroni di prucessi di mostra panel pò fà dipositu Niobium à a cima di l'emettitore, chì serà assai utile in u sviluppu di grandi schermi cù alta definizione.

Rich Special Materials hè specializatu in a Fabbricazione di Sputtering Target è puderia pruduce Molybdenu Niobium Sputtering Materiali secondu e specificazioni di i Clienti.Per più infurmazione, per piacè cuntattateci.