TiAlSi Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made
Titanium Aluminium Silicon
Titanium Aluminium Silicon Sputtering Target Description
Titanium Aluminium Silicon sputtering target hè fabbricatu per mezu di metallurgia di putenza.
Titanium Aluminium Silicon alliage in cunvenzione usata in a fabricazione di mutori di l'automobile.Havi un'eccellente adattabilità à alta temperatura è resistenza à l'usura.L'applicazione di a lega Ti-Al-Si puderia allargà significativamente a vita di i cumpunenti di u mutore per circa 35%.In quantu à a so applicazione in a rota di motocicletta è di l'automobile, mostra una migliore castability, machinability, resistenza à a fatigue è resistenza à l'impattu cà l'A356 Aluminium.
Una lega d'aluminiu solidificata rapidamente puderia esse ottenuta da un prucessu di solidificazione rapida chjamatu "filatura di fusione", chì genera proprietà superiori in paragunà cù a lega d'aluminiu convenzionale, inseme cù una microstruttura fine è più flessibilità in lega.Hè un materiale potenziale in l'industria di l'aeronautica per rimpiazzà a lega di basa di Titaniu utilizata in 150-300 ℃.
Durante u prucessu di depositu di i target TiAlSi, TiAlSi / TiAlSiN puderia esse furmatu individualmente cum'è una multi-strati di strati cristallini di alta qualità cù strutture principalmente cubiche.Questi rivestimenti multi-strati anu fattu questi materiali per rivestimenti duri per aumentà a vita di strumenti utilizati per ambienti duri.
Packaging Target di Sputtering di Siliciu di Titaniu Aluminiu
U nostru scopu di sputter Titanium Aluminium Silicon hè chjaramente marcatu è marcatu esternamente per assicurà l'identificazione efficace è u cuntrollu di qualità.Ci hè una grande cura per evità ogni dannu chì puderia esse causatu durante u almacenamentu o u trasportu.
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L'obiettivi di sputtering di RSM Titanium Aluminium Silicon sò di ultra-alta purezza è uniformi.Sò dispunibuli in diverse forme, purità, dimensioni è prezzi.Semu spicializati in a produzzione di materiali di rivestimentu di film sottile d'alta purezza cù prestazioni eccellenti è ancu a più alta densità pussibule è a più piccula dimensione di granu mediu pussibule per l'usu in u revestimentu di stampi, a decorazione, a parti di l'automobile, u vetru low-E, u circuitu integratu semi-conduttore, u film sottile. resistenza, display graficu, aerospaziale, registrazione magnetica, schermu tattile, batteria solare di film sottile è altre applicazioni di deposizione fisica di vapore (PVD).Per piacè mandateci una dumanda per i prezzi attuali nantu à i miri di sputtering è altri materiali di deposizione micca listati.