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Titanium Silicon

TiSi Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Featured Image

Descrizione breve:

categuria	Alloy Sputtering Target
Formula chimica	TiSi
Cumpusizioni	Titanium Silicon
Purità	99,7%，99,9%，99,95%
Forma	Piastre, Targets di Colonna, catodi d'arcu, Custom Made
Prucessu di pruduzzione	Fusione à vacuum, PM
Taglia dispunibule	L≤2000mm,W≤200mm

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Titanium Silicon Sputtering Target Description

Un revestimentu di Nitruru super-duru puderia esse furmatu quandu Titanium Silicone cumminatu cù u gasu Nitrogenu durante u prucessu di deposizione.L'elementu di Siliciu prisente assicura un altu cumpurtamentu di resistenza à l'ossidazione, mentri Titanium - durezza.Puderia mostra una proprietà di resistenza à l'usura eccellente ancu à temperature altamente elevate.L'arnesi di taglio dipositu da u rivestimentu TiSiN sò ideali per a fresatura d'alta velocità è dura, soprattuttu in u tagliu seccu, è puderanu trattà cù alcune super aleaghji, cum'è leghe di basa di nichel è titaniu.

I nostri target tipici TiSi è e so proprietà

	Ti-15Sià%	Ti-20Sià%	Ti-25Sià%	Ti-30Sià%
Purezza (%)	99.9	99.9	99.9	99.9
Densità(g/cm).³）	4.4	4.35	4.3	4.25
Gpiova Taglia(µm)	200/100	100	100	100
Prucessu	VAR/HIP	HIP	HIP	HIP

A nostra sucetà hà parechji anni di sperienza in a fabricazione di obiettivi di sputtering per strumenti di taglio di muffa.Ti-15Si at%, fabbricatu da fusione in vacuum, hà una struttura homogeneia, alta purezza è pocu cuntenutu di gas.Inoltre, furnimu ancu Ti-15Si at% 、Ti-20Si at% è Ti-25Si at% pruduciutu per mezu di metallurgia di putenza.I nostri obiettivi in TiSi anu eccellenti proprietà meccaniche, rendenduli insensibili à cracking è fallimentu strutturale.

Imballaggio di destinazione di sputtering di siliciu di titaniu

U nostru scopu di sputter Titanium Silicon hè chjaramente marcatu è marcatu esternamente per assicurà l'identificazione efficace è u cuntrollu di qualità.Ci hè una grande cura per evità ogni dannu chì puderia esse causatu durante u almacenamentu o u trasportu.

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L'obiettivi di sputtering Titanium Silicon di RSM sò di purezza ultra-alta è uniformi.Sò dispunibuli in diverse forme, purità, dimensioni è prezzi.Semu spicializati in a produzzione di materiali di rivestimentu di film sottile d'alta purezza cù prestazioni eccellenti è ancu a più alta densità pussibule è a più piccula dimensione di granu mediu pussibule per l'usu in u revestimentu di stampi, a decorazione, a parti di l'automobile, u vetru low-E, u circuitu integratu semi-conduttore, u film sottile. resistenza, display graficu, aerospaziale, registrazione magnetica, schermu tattile, batteria solare di film sottile è altre applicazioni di deposizione fisica di vapore (PVD).Per piacè mandateci una dumanda per i prezzi attuali nantu à i miri di sputtering è altri materiali di deposizione micca listati.