CoFeTaZr Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

Cobalt Iron Tantalum Zirconium sputtering target hè fabbricatu per mezu di fusione à vacuum.Stu prucessu di pruduzzione puderia prutegge in modu efficace i cumpunenti maiò da l'ossidazione è assicurà una microstruttura omogenea, una dimensione di granu uniformata è una alta consistenza di i filmi dipositati.

Dopu u trattamentu termale, u PTF di u mira puderia esse migliuratu significativamente, per quessa, hè spessu usatu per u materiale di capa magnetica suave in strati di registrazione magnetica perpendiculare.

Rich Special Materials hè specializatu in a Fabbricazione di Sputtering Target è puderia pruduce Cobalt Iron Tantalum Zirconium Sputtering Materiali secondu e specificazioni di i Clienti.Per più infurmazione, per piacè cuntattateci.