CrAl Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film PVD Coating Custom Made
Chromium Aluminium
A fabricazione di Targets di Sputtering Chromium Aluminium comprende i seguenti passi:
1. Powder grinding and mixing.
2. Trattamentu di pressa isostatica calda per ottene prudutti semifiniti.
3. Machining u materiale di destinazione sputtering in lega d'aluminiu di cromu per ottene u materiale di destinazione di sputtering in lega d'aluminiu di cromu.
Durante u prucessu di depositu di l'obiettivi di sputtering CrAl, un revestimentu duru di Aluminium-Chrom-Nitrid (AlCrN) hè furmatu.Stu revestimentu mostra una alta durezza è proprietà di resistenza à l'ossidazione ancu à alta temperatura.I cutters puderanu funziunà à alta alimentazione per aumentà a produtividade è aumentà a qualità quandu utilizanu macchine CNC.
I nostri target tipici AlCr è e so proprietà
| Cr-70Alà% | Cr-60Alà% | Cr-50Alà% | |
| Purezza (%) | 99,8/99,9/99,95 | 99,8/99,9/99,95 | 99,8/99,9/99,95 |
| Densità（g/cm3） | 3.7 | 4.35 | 4.55 |
| Gpiova Taglia(µm) | 100/50 | 100/50 | 100/50 |
| Prucessu | HIP | HIP | HIP |
Rich Special Materials hè specializatu in a Fabbricazione di Sputtering Target è puderia pruduce Materiali di Sputtering d'Aluminium Chromium secondu e specificazioni di i Clienti.I nostri prudutti presentanu eccellenti proprietà meccaniche, struttura omogenea, superficia pulita senza segregazione, pori o crepe.Per più infurmazione, per piacè cuntattateci.
categurie di prudutti
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AlMg Alloy Sputtering Target High Purity Thin F...
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AlNi Alloy Sputtering Target High Purity Thin F...
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AlCu Sputtering Target High Purity Thin Film PV...
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AlNb Alloy Sputtering Target High Purity Thin F...
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Alliage AlTi Pulverizzazione Cibo di Alta Purezza
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AlSi Alloy Sputtering Target High Purity Thin F...
