Vantaggi di i miri di sputtering magnetron cilindricu è planari

U cunsultore tecnicu di RSM hà da sparte cun voi i vantaghji di i miri di sputtering magnetron cilindricu è planari?In cunfrontu cù l'altri miri di sputtering di magnetroni, i miri di sputtering di magnetron cilindric è planari conservanu i vantaghji di una bona uniformità di rivestimentu di mira rettangulari planari, è ponu maximizà l'utilizazione di i miri attraversu i seguenti dui modi:

(1) Quandu i dui gruppi (quattru) di fossi annulari nantu à a superficia di u mira righjunghjenu una certa prufundità, u core di destinazione (parti magnetichi) pò esse rotatu 45 ° relative à u tubu di destinazione, in modu chì altri spazii nantu à u tubu di destinazione. chì ùn sò micca stati corroded pò esse usatu;

(2) Quandu u nucleu di destinazione di u target sputtering magnetron cilindrico è planare hè cuncepitu cum'è un nucleu di mira rotante (u nucleu di destinazione hè in rotazione durante a sputtering), a superficia di u mira pò esse sputtered uniformemente strata per strata senza fossa.À questu tempu, u target serà utilizatu in modu più efficace, è u tassu d'utilizazione di u target pò ghjunghje à 50% ~ 60% Quandu u materiale di destinazione hè metalli preziosi, questu hè ovviamente di grande significazione.

Utilizendu u principiu di magnetronu cù scarpa polare in un target di sputtering di magnetron cilindrico coaxial per risolve u prublema di u campu magneticu finale, l'obbiettivu di u pianu rettangulare pò esse trasfurmatu in un target sputtering di magnetron cilindrico è planare, U target pò maximizà a rata di utilizzazione di u target. pur mantenendu l'uniformità bona di u revestimentu di u scopu di u pianu rettangulare So as to improve economics benefits.