Campu d'applicazione di u materiale di destinazione di sputtering di molibdenu

U molibdenu hè un elementu metallicu, principarmenti utilizatu in l'industria siderurgica, a maiò parte di quale hè direttamente utilizata in a fabricazione di l'acciaio o in ghisa dopu chì l'ossidu di molibdenu industriale hè pressatu, è una piccula parte di questu hè funnutu in ferro molibdenu è dopu utilizatu in l'acciaio. fà.Pò rinfurzà a forza, a durezza, a saldabilità è a tenacità di a lega, ma ancu rinfurzà a so forza à alta temperatura è a resistenza à a corrosione.Allora in quali campi sò usati i miri di sputtering di molibdenu?Questa hè a parte di l'editore di RSM.

　　Applicazione di materiale di destinazione di molibdenu sputtering

In l'industria elettronica, u scopu di sputtering di molibdenu hè principalmente utilizatu in display flat, elettrodi di cellula solare di film sottile è materiale di cablaggio è materiale di barriera semiconductor.Quessi sò basati nantu à un altu puntu di fusione di molibdenu, una alta conduttività elettrica, una bassa impedenza specifica, una migliore resistenza à a corrosione è un bonu rendimentu ambientale.

U molibdenu hè unu di i materiali preferiti per sputtering target of flat display per via di i so vantaghji di solu 1/2 di impedenza è di stress di film cumparatu cù cromu è senza contaminazione ambientale.Inoltre, l'usu di molibdenu in cumpunenti LCD pò migliurà assai u rendiment di LCD in luminosità, cuntrastu, culore è vita.

In l'industria di display flat panel, una di l'applicazioni principali di u mercatu di u scopu di sputtering di molibdenu hè TFT-LCD.A ricerca di u mercatu indica chì i prossimi anni seranu u piccu di u sviluppu LCD, cù una crescita annuale di circa 30%.Cù u sviluppu di LCD, u cunsumu di LCD sputtering target aumenta ancu rapidamente, cù una crescita annuale di circa 20%.In u 2006, a dumanda glubale di materiale di destinazione di molibdenu sputtering era di circa 700T, è in u 2007, era di circa 900T.

In più di l'industria di display flat panel, cù u sviluppu di a nova industria energetica, l'applicazione di u molibdenu sputtering target in thin film cells solar photovoltaic hè in crescita.La couche d'électrode de batterie à film mince CIGS (Cu indium Gallium Selenium) est formée sur l'objectif de sputtering de molibdene par sputtering.