1. Metudu di sputtering di Magnetron:
A sputtering di Magnetron pò esse divisa in sputtering DC, sputtering di frequenza media è RF sputtering.
A. DC sputtering power supply hè prezzu è a densità di film dipositu hè poviru.In generale, e batterie fototermali domestiche è di film sottile sò aduprate cù poca energia, è l'obiettivu di sputtering hè un mira di metallu conduttivu.
B. L'energia di sputtering RF hè alta, è u mira di sputtering pò esse mira non-conductive o target conductive.
C. U scopu di sputtering di frequenza media pò esse mira di ceramica o mira di metallu.
2. Classificazione è appiecazione di i miri di sputtering
Ci sò parechji tipi di miri di sputtering, è i metudi di classificazione di u mira sò ancu diffirenti.Sicondu a forma, sò spartuti in target long, target square è round target;Sicondu a cumpusizioni, pò esse divisu in mira di metallu, mira di lega è mira composta ceramica;Sicondu i diversi campi di appiecazione, pò esse divisu in ugetti di ceramica cunnessi à semiconductor, arregistramentu di ugetti di ceramica media, display target ceramics, etc. Sputtering targets sò principarmenti usati in l'industrii elettronichi è di l'infurmazioni, cum'è l'industria di almacenamiento d'infurmazioni.In questa industria, i miri di sputtering sò usati per preparà prudutti di film sottili pertinenti (discu duru, testa magnetica, discu otticu, etc.).Attualmente.Cù u sviluppu cuntinuu di l'industria di l'infurmazioni, a dumanda per a registrazione di mira di ceramica media in u mercatu hè in crescita.A ricerca è a pruduzzione di target media di registrazione hè diventata u focu di una grande attenzione.
Tempu di post: 11-May-2022