Ricchi materiali speciali Co., Ltd.Fornisce Obiettivi di Sputtering di Zirconiu di alta purezza cù a più alta densità pussibule è i più picculi dimensioni di granu mediu pussibule per l'usu in semiconductor, deposizione di vapore chimicu (CVD) è deposizione fisica di vapore (PVD) è applicazioni ottiche.I nostri obiettivi di sputtering standard per film sottili sò dispunibuli monoblocchi o incollati cù dimensioni planari è cunfigurazioni finu à 820 mm cù lochi di perforazione è filettatura, bisellatura, scanalature è supporti pensati per travaglià sia cù i vechji apparecchi di sputtering sia cù l'ultime attrezzature di prucessu, cum'è un grande rivestimentu per l'energia solare o celle di combustibile è applicazioni flip-chip.Obiettivi di dimensioni di ricerca sò ancu pruduciuti è dimensioni persunalizate è leghe.Tutti i miri sò analizati cù e tecniche megliu dimustrate cumprese a fluorescenza X-Ray (XRF).
Tempu di post: May-03-2023