Principiu di u vacuum coating

U vacuum coating si riferisce à riscaldamentu è evaporazione di a fonte di evaporazione in vacuum o sputtering cù un bumbardamentu di ioni acceleratu, è dipositu nantu à a superficia di u sustrato per furmà una film di una sola capa o multi-layer.Chì ghjè u principiu di u vacuum coating?In seguitu, l'editore di RSM l'introducerà à noi.

　　1. Revestimentu di evaporazione vacuum

U revestimentu di l'evaporazione richiede chì a distanza trà e molécule di vapore o atomi da a fonte di evaporazione è u sustrato da esse rivestitu deve esse menu di u percorsu liberu mediu di e molécule di gas residuali in a sala di rivestimentu, in modu per assicurà chì e molécule di vapore di l'acqua. l'evaporazione pò ghjunghje à a superficia di u sustrato senza collisione.Assicuratevi chì a film hè pura è ferma, è l'evaporazione ùn s'ossidarà.

　　2. Vacuum sputtering coating

In u vacuum, quandu i ioni accelerati scontranu cù u solidu, da una banda, u cristallu hè dannatu, da l'altra banda, scontranu cù l'atomi chì custituiscenu u cristalu, è infine l'atomi o molécule nantu à a superficia di u solidu. sputter versu l'esterno.U materiale sputtered hè chjapputu nantu à u sustrato per furmà una film fina, chì hè chjamatu sputter plating vacuum.Ci sò parechji metudi di sputtering, trà i quali sputtering diode hè u più anticu.Sicondu diverse miri di cathode, pò esse divisu in corrente diretta (DC) è alta frequenza (RF).U numaru di atomi sputtered impactendu a superficia di destinazione cù un ionu hè chjamatu sputtering rate.Cù una alta velocità di sputtering, a velocità di furmazione di film hè rapida.A tarifa di sputtering hè ligata à l'energia è u tipu di ioni è u tipu di materiale di destinazione.In generale, a tarifa di sputtering aumenta cù l'aumentu di l'energia ionica umana, è a tarifa di sputtering di metalli preziosi hè più altu.