L'usu largu di materiale di destinazione in diverse professioni rende a dumanda di materiale di destinazione più altu è più altu.I seguenti Avemu presentate brevemente tu ciò chì hè i bisogni funziunali primariu di u mira, hoping per aiutà vi.
Purità: Purità hè unu di l'indicatori funziunali primari di u mira, perchè a purità di u mira hà un grande impattu nantu à a funzione di a film.Ma in pratica, a purità di u materiale di destinazione ùn hè micca listessu.Per esempiu, cù u rapidu crescita di a prufessione di a microelettronica, a dimensione di l'ostia di siliciu hà sviluppatu da 6 ", 8 "à 12", è a larghezza di cablaggio hè diminuita da 0.5um à 0.25um, 0.18um è ancu 0.13um.Una volta u 99.995% di a purità di destinazione pò risponde à i requisiti tecnologichi di 0.35UMIC.A preparazione di a linea 0.18um richiede 99.999% o ancu 99.9999% di purezza di materiale di destinazione.
Densità: Per riduce a porosità in u solidu di destinazione è migliurà a funzione di a film di sputtering, l'obiettivu hè generalmente necessariu d'avè una alta densità.A densità di destinazione affetta micca solu a rata di sputtering, ma ancu e proprietà elettriche è ottiche di i filmi.A più alta a densità di destinazione, u megliu a funzione di a film.In più, a densità è a forza di u materiale di destinazione sò stati aumentati per fà più capace di sopra à u stress termale durante u sputtering.A densità hè ancu unu di l'indicatori funziunali impurtanti di sustanzi di destinazione.
Cuntenutu di impurità: impurità in u solidu di destinazione è l'ossigenu è u vapore d'acqua in i pori sò i fonti di contaminazione primaria di i filmi accumulati. Diversi materiali di destinazione per scopi diversi anu esigenze diverse per u cuntenutu di impurità.Per esempiu, l'alluminiu puri è l'obbiettivi di lega d'aluminiu utilizati in l'industria di i semiconduttori anu esigenze speciali per u cuntenutu di metalli alkali è u cuntenutu di elementi radioattivi.
Tempu di posta: 06-06-2022