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Nickel Vanadium

NiV Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Featured Image

Descrizione breve:

categuria	Alloy Sputtering Target
Formula chimica	NiV
Cumpusizioni	Nickel Vanadium
Purità	99,9%，99,95%，99,99%
Forma	Piastre, Targets di Colonna, catodi d'arcu, Custom Made
Prucessu di pruduzzione	A fusion à vacuum
Taglia dispunibule	L≤4000mm,W≤350mm

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Nichel Vanadium Sputtering Target Description

L'oru hè spessu applicatu in a deposizione di u circuitu integratu, ma AuSi cumpostu bassu di fusione hè spessu furmatu se l'oru hè cumminatu cù u Siliciu, chì causaria u looseness trà e diverse strati.Pure Nickel hè una bona scelta per a strata Adhesive, mentre chì una strata di Barriera hè ancu necessaria trà a strata di Nickel è Gold per prevene a proliferazione.U vanadiu puderia satisfà perfettamente stu requisitu cù un altu puntu di fusione è a capacità di stà alta densità di ampere.Dunque, u nichel, u vanadiu è l'oru sò trè materiali generalmente applicati in l'industria di circuiti integrati.Nickel Vanadium Sputtering Target hè fabricatu aghjunghjendu Vanadium in Nickel fusu.Cù ferromagnetismu bassu, hè una bona scelta per u magnetron sputtering di i prudutti elettronichi, chì puderanu pruduce a strata di Nickel è Vanadium in una volta.

Ni-7V wt% Contenutu di impurità

Purità	Cumpunente principale(pesu %)	Sustanze chimiche impurità（≤ppm）							Impurità In totale(≤ ppm)
	V	Fe	Al	Si	C	N	O	S
99,99	7± 0,5	20	30	20	100	30	100	20	100
99,95	7± 0,5	200	200	200	100	100	200	50	500
99.9	7± 0,5	300	300	300	100	100	200	50	500

Packaging Target per Sputtering di Nickel Vanadium

U nostru scopu di sputter di Nickel Vanadium hè chjaramente marcatu è marcatu esternamente per assicurà l'identificazione efficace è u cuntrollu di qualità.Ci hè una grande cura per evità ogni dannu chì puderia esse causatu durante u almacenamentu o u trasportu.

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I target di sputtering di Nickel Vanadium di RSM sò di purezza ultra-alta è uniformi.Sò dispunibuli in diverse forme, purità, dimensioni è prezzi.Semu spicializati in a produzzione di materiali di rivestimentu di film sottile d'alta purezza cù prestazioni eccellenti è ancu a più alta densità pussibule è a più piccula dimensione di granu mediu pussibule per l'usu in u revestimentu di stampi, a decorazione, a parti di l'automobile, u vetru low-E, u circuitu integratu semi-conduttore, u film sottile. resistenza, display graficu, aerospaziale, registrazione magnetica, schermu tattile, batteria solare di film sottile è altre applicazioni di deposizione fisica di vapore (PVD).Per piacè mandateci una dumanda per i prezzi attuali nantu à i miri di sputtering è altri materiali di deposizione micca listati.

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