V Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made
Vanadiu
Vanadium Sputtering Target Description
Vanadium hè un metale duru è duttile cù un aspettu grisgiu argentu.Hè più duru cà a maiò parte di i metalli è mostra una bona resistenza à a corrosione contr'à l'alkali è l'acidi.U so puntu di fusione hè 1890 ℃, è u puntu di ebollizione hè 3380 ℃.U so numeru atomicu hè 23, è u pesu atomicu hè 50,9414.Havi una struttura cúbica centrata in faccia è stati d'ossidazione in i so cumposti di +5, +4, +3 è +2.Hà un altu puntu di fusione, duttilità, durezza è resistenza à a corrosione.
U vanadiu hè largamente utilizatu in una quantità di industrii è applicazioni, cum'è i mutori di jet, frames d'aria d'alta velocità, reattori nucleari è lega d'acciaio.
L'obiettivo di sputtering di Vanadium di alta purezza hè un materiale criticu per e cellule solari è i rivestimenti di lenti ottiche.
Analisi chimica
| Purità | 99,7 | 99.9 | 99,95 | 99,99 |
| Fe | ≤0.1 | ≤0,05 | ≤0,02 | ≤0,01 |
| Al | ≤0.2 | ≤0,05 | ≤0,03 | ≤0,01 |
| Si | ≤0,15 | ≤0.1 | ≤0,05 | ≤0,01 |
| C | ≤0,03 | ≤0,02 | ≤0,01 | ≤0,01 |
| N | ≤0,01 | ≤0,01 | ≤0,01 | ≤0,01 |
| O | ≤0,05 | ≤0,05 | ≤0,05 | ≤0,03 |
| Impurità in tuttu | ≤0.3 | ≤0.1 | ≤0,05 | ≤0,01 |
Imballaggio di destinazione per sputtering di vanadiu
U nostru scopu di sputter di Vanadium hè chjaramente marcatu è marcatu esternamente per assicurà l'identificazione efficace è u cuntrollu di qualità.Ci hè una grande cura per evità ogni dannu chì puderia esse causatu durante u almacenamentu o u trasportu.
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