Materiale di Rivestimentu à Vacuum Target CoFeTaZr Target Cobalt-Fer-Tantalu-Zirconium Alliage target Magnetron Sputtering target

Materiale di Coating VacuumCoFeTaZr targetCobalt-Fer-Tantalu-Zirconium Alliage target Magnetron Sputtering target,
CoFeTaZr target,
Obiettivu di sputtering di cromu cobaltuda Rich Special Materials hè un materiale di sputtering in lega d'argentu chì cuntene Cr è Co.

U cromu hè un elementu chimicu chì vene da u grecu "chroma", chì significa culore.Hè stata utilizata prima di l'annu 1 AD è scupertu da l'Armata di Terracotta."Cr" hè u simbulu chimicu canonicu di u cromu.U so numeru atomicu in a tavola periodica di l'elementi hè 24 cù un locu in u Periudu 4 è u Gruppu 6, chì appartene à u bloccu d.A massa atomica relative di u cromu hè 51,9961 (6) Dalton, u numeru in i parentesi chì indica l'incertezza.

U cobalt hè un elementu chimicu chì hè urigginatu da a parolla tedesca "kobald", chì significa goblin.Hè statu mintuatu prima in u 1732 è osservatu da G. Brandt."Co" hè u simbulu chimicu canonicu di cobalt.U so numeru atomicu in a tavola periodica di l'elementi hè 27 cù un locu in u Periudu 4 è u Gruppu 9, chì appartene à u bloccu d.A massa atomica relativa di cobalt hè 58.933195 (5) Dalton, u numeru in i parentesi chì indicanu l'incertezza.

Chronium Cobalt Sputtering Targets sò fabbricati per mezu di Vacuum Melting è PM.CrCo hà una forza specifica superiore è hè stata aduprata in diversi campi induve era necessaria una alta resistenza à l'usura, cumpresa l'industria aerospaziale, cutelleria, cuscinetti, lame, etc.

Rich Special Materials hè specializatu in a Fabbricazione di Sputtering Target è puderia pruduce Materiali di Sputtering Chronium Cobalt secondu e specificazioni di i Clienti.Per più infurmazione, per piacè cuntattateci. Zirconiu ferru cobalt tantalu materiale di destinazione hè fatta di cobalt d'alta purezza, ferru, tantalu, zirconiu da a fusione à vacuum altu di u materiale di destinazione, a tecnulugia pò cuntrullà efficacemente u cuntenutu di l'ossigenu di u pruduttu di destinazione è l'usu di Raffreddamentu speciale di u muffa, hè un liquidu in lega di rinfrescante rapidu, a struttura uniforme di materiale di destinazione di lega, a distribuzione uniforme di cumpusizioni, chjuca, attraversu un processu di densificazione d'alta temperatura è d'alta pressione, rende u materiale assai densu, Questu furnisce una guaranzia per u sputtering di alta. filmi di qualità.Dopu à u trattamentu termale, u rapportu di testa magnetica (PTF) di u mira hè significativamente aumentatu, è i filmi sottili dipositati da u target di cobalt-ferru-tantaliu-zirconiu sò impurtanti strati magnetichi dolci in a film di registrazione magnetica verticale.