ZrSi Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film PVD Coating Custom Made
Siliciu di zirconiu
L'obiettivu di sputtering di Zirconiu Silicon hè fabbricatu per mezu di fusione à vacuum è metallurgia di putenza.
U presente Zirconiu puderia migliurà u cumpurtamentu di a durezza è a resistenza à a corrosione.
Obiettivu di Zirconiu Siliciu in bassa in conductività elettrica, è puderia riduce u stress residuale, chì migliurà a stabilità di i rivestimenti è prolongà a vita di serviziu.I rivestimenti ponu esse aduprati nantu à u vetru Low-E per a so alta consistenza è u cumpurtamentu di resistenza à a corrosione.
Paragunatu à u siliciu puru, i miri di sputtering di siliciu di zirconiu di alta purezza puderanu migliurà significativamente a resistenza à l'attrito di u revestimentu dipositu da 4-6 volte.
Dunque, Zr-Si hè dispunibule per parechje applicazioni pratiche.
Rich Special Materials hè un Produttore di Sputtering Target è puderia pruduce Materiali di Sputtering di Siliciu Zirconiu secondu e specificazioni di i Clienti.Per più infurmazione, per piacè cuntattateci.