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ZrSi Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film PVD Coating Custom Made

Siliciu di zirconiu

Descrizione breve:

categuria

Alloy Sputtering Target

Formula chimica

ZrSi

Cumpusizioni

Siliciu di zirconiu

Purità

99,5%,99,7%,99,9%,

Forma

Piastre, Targets di Colonna, catodi d'arcu, Custom Made

Prucessu di pruduzzione

Fusione à vacuum, PM

Taglia dispunibule

L≤200mm,W≤200mm


Detail di u produttu

Tags di u produttu

L'obiettivu di sputtering di Zirconiu Silicon hè fabbricatu per mezu di fusione à vacuum è metallurgia di putenza.

U presente Zirconiu puderia migliurà u cumpurtamentu di a durezza è a resistenza à a corrosione.

Obiettivu di Zirconiu Siliciu in bassa in conductività elettrica, è puderia riduce u stress residuale, chì migliurà a stabilità di i rivestimenti è prolongà a vita di serviziu.I rivestimenti ponu esse aduprati nantu à u vetru Low-E per a so alta consistenza è u cumpurtamentu di resistenza à a corrosione.

Paragunatu à u siliciu puru, i miri di sputtering di siliciu di zirconiu di alta purezza puderanu migliurà significativamente a resistenza à l'attrito di u revestimentu dipositu da 4-6 volte.

Dunque, Zr-Si hè dispunibule per parechje applicazioni pratiche.

Rich Special Materials hè un Produttore di Sputtering Target è puderia pruduce Materiali di Sputtering di Siliciu Zirconiu secondu e specificazioni di i Clienti.Per più infurmazione, per piacè cuntattateci.


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